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Effect of ultraviolet irradiation on electrical resistance and phase transition characteristics of thin film vanadium oxide

机译:紫外线辐射对薄膜钒氧化物电阻和相变特性的影响

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摘要

Metal-insulator transitions in strongly correlated oxides such as vanadium oxide (VO_2) are of great scientific and technological interest. Due to the presence of multiple oxidation states, synthesis of high-quality VO_2 films on substrates with the desired phase transition characteristics such as large jumps in phase transition resistance is a challenge. We show that the resistance ratio across the metal-insulator transition as well as the resistance of thin film VO_2 can be modulated at relatively low temperatures by the use of ultraviolet irradiation. The enhanced oxygen incorporation due to creation of excited oxygen species enables controllably tunable stoichiometry.
机译:强烈关联的氧化物(例如氧化钒(VO_2))中的金属-绝缘体过渡具有重大的科学技术意义。由于存在多个氧化态,因此在具有所需相变特性(例如,相变电阻的大跳变)的基板上合成高质量的VO_2膜是一项挑战。我们表明,通过使用紫外线辐射,可以在相对较低的温度下调节跨金属-绝缘体转变的电阻比以及薄膜VO_2的电阻。由于产生了激发的氧,增强了氧的掺入,使得可控的化学计量可调节。

著录项

  • 来源
    《Journal of Applied Physics》 |2008年第10期|972-974|共3页
  • 作者单位
  • 收录信息 美国《科学引文索引》(SCI);美国《工程索引》(EI);美国《生物学医学文摘》(MEDLINE);
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 eng
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