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机译:反应射频溅射生长和退火后的SiO_x / Si纳米晶体异质层的光致发光
Departamento de Matematicas, ESIME ZAC IPN, Unidad Adolfo Lopez Mateos, Mexico D.F. 07738, Mexico;
rnDepartamento de Fisica, CINVESTAV-IPN, Apdo. 17-740 Mexico D.F. 07000, Mexico,CICATA-IPN, Unidad Legaria, Legaria 694 Col. Irrigation, Del. Miguel Hidalgo, Mexico D.F. 11500, Mexico;
rnCICATA-IPN, Unidad Legaria, Legaria 694 Col. Irrigation, Del. Miguel Hidalgo, Mexico D.F. 11500, Mexico;
rnInstitute Mexicano del Petroleo, Direction de Investigacion y Posgrado, Eje Central L. Cdrdenas 152, Mexico D.F. 07730, Mexico;
rnDepartamento de Fisica, CUCEI, Universidad de Guadalajara, Blvd. Marcelino Garcia Barragdn # 1421, Guadalajara, Jal. 44430, Mexico;
rnCINVESTAV-IPN, Unidad Queritaro, Apartado Postal 1-798, Queritaro, Qro. 76001, Mexico;
rnDepartamento de Fisica, CUCEI, Universidad de Guadalajara, Blvd. Marcelino Garcia Barragdn # 1421, Guadalajara, Jal. 44430, Mexico;
机译:等离子体组成对反应溅射沉积的SiO_x / Si异质层结构和电子性能的影响
机译:以生长和热退火的N-和P型调节掺杂Ga_(0.68)IN_(0.32)N_XAS_(1-X)/ GaAs量子阱结构的光致发光特性
机译:快速热退火对射频反应磁控溅射在玻璃基板上生长的In_2O_3薄膜性能的影响
机译:通过快速热退火通过RF磁控溅射在(0001)蓝宝石衬底上生长的Ga掺杂ZnO薄膜的光致发光和光学性质
机译:生长和热退火的块状ZnO晶体的光致发光研究。
机译:通过射频磁控溅射生长的富硅Al2O3膜:结构和光致发光特性与退火处理的关系
机译:通过射频磁控溅射生长的富硅Al2O3膜:结构和光致发光特性与退火处理的关系