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机译:通过催化蚀刻Au / Si(100)晶片形成的“黑硅”的光学特性
Graduate School of Science and Engineering, Gunma University, Kiryu, Gunma 376-8515, Japan;
Graduate School of Science and Engineering, Gunma University, Kiryu, Gunma 376-8515, Japan;
机译:黑硅法。八。使用基于SF_6 / O_2的化学材料,低温晶圆冷却和高密度ICP源的硅蚀刻性能的研究
机译:刻蚀时间对刻蚀多晶硅晶片上硅纳米线阵列的形貌,光学和结构性能的影响
机译:确定微结构化和纳米蚀刻工艺以增强n型单晶硅晶片的光学性能
机译:使用{100}硅片的双面各向异性湿法蚀刻原位制造{111}反射镜和光学平台
机译:STRSSED氮化硅膜的光学性质及其对高对比光栅性能的影响
机译:通过使用自掩膜蚀刻技术在晶圆表面形成纳米级金字塔提高多晶硅晶圆太阳能电池效率
机译:黑硅法。八。使用基于SF6 / O2的化学方法,低温晶圆冷却和高密度ICP源对硅蚀刻性能的研究
机译:用于监测氯 - 氦等离子体中多晶硅的等离子体蚀刻期间的蚀刻均匀性的光学诊断仪器。