机译:基于氧化物的存储设备中CMOS兼容电极材料的选择
Data Storage Institute (A*STAR), 2 Fusionopolis Way, Singapore 138634, Singapore;
Data Storage Institute (A*STAR), 2 Fusionopolis Way, Singapore 138634, Singapore;
Rowland Institute at Harvard, Harvard University, Cambridge, Massachusetts 02142, USA;
Data Storage Institute (A*STAR), 2 Fusionopolis Way, Singapore 138634, Singapore;
Data Storage Institute (A*STAR), 2 Fusionopolis Way, Singapore 138634, Singapore;
Data Storage Institute (A*STAR), 2 Fusionopolis Way, Singapore 138634, Singapore;
Department of Engineering, University of Cambridge, Cambridge CB2 1PZ, United Kingdom;
机译:垂直纳米柱GAA晶体管和基于氧化物的RRAM单元完全兼容CMOS的1T1R集成,适用于高密度非易失性存储应用
机译:GE:GE:GA超脱位材料和使用CMOS - 兼容GA和GE氢化物化学的材料
机译:用于中红外微光子的Si-CMOS兼容材料和器件
机译:先进CMOS器件的金属硅酸盐介质和金属栅电极的电气和材料性能。
机译:开发CMOS兼容材料的片上非线性光学器件
机译:氧化镧Ga:CMOS逻辑和存储设备的新型电子设备材料
机译:镧钆氧化物:一种用于CmOs逻辑和存储器件的新型电子器件材料