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机译:无功大功率脉冲磁控溅射沉积NiO_x薄膜的过程和光电控制
Institut de Recherche Technologique (IRT), Chemin du Chaffault, 44340 Bouguenais, France, Institut des MaTériaux Jean Rouxel (IMN), Universite de Nantes, CNRS, 2 rue de la Houssiniere, 44300 Nantes, France, Plasma and Coatings Physics Division, IFM Materials Physics, Linkoping University, Linköping SE 581-83, Sweden;
Institut des MaTériaux Jean Rouxel (IMN), Universite de Nantes, CNRS, 2 rue de la Houssiniere, 44300 Nantes, France;
Institut des MaTériaux Jean Rouxel (IMN), Universite de Nantes, CNRS, 2 rue de la Houssiniere, 44300 Nantes, France;
Institut des MaTériaux Jean Rouxel (IMN), Universite de Nantes, CNRS, 2 rue de la Houssiniere, 44300 Nantes, France, School of Physics, Yachay Tech, School of Physical Sciences and Nanotechnology, 100119 Urcuqui, Ecuador;
Institut des MaTériaux Jean Rouxel (IMN), Universite de Nantes, CNRS, 2 rue de la Houssiniere, 44300 Nantes, France;
Institut des MaTériaux Jean Rouxel (IMN), Universite de Nantes, CNRS, 2 rue de la Houssiniere, 44300 Nantes, France;
Institut des MaTériaux Jean Rouxel (IMN), Universite de Nantes, CNRS, 2 rue de la Houssiniere, 44300 Nantes, France;
Institut des MaTériaux Jean Rouxel (IMN), Universite de Nantes, CNRS, 2 rue de la Houssiniere, 44300 Nantes, France;
Institut des MaTériaux Jean Rouxel (IMN), Universite de Nantes, CNRS, 2 rue de la Houssiniere, 44300 Nantes, France;
Institut des MaTériaux Jean Rouxel (IMN), Universite de Nantes, CNRS, 2 rue de la Houssiniere, 44300 Nantes, France;
机译:双靶反应高功率脉冲磁控溅射沉积纳米结构CR2O3薄膜的微观结构和电性能
机译:通过反应性高功率脉冲磁控溅射沉积的碳碳氮化硅薄膜
机译:反应性大功率脉冲磁控溅射沉积氧化锆薄膜的结构和光学性质
机译:通过直流反应磁控溅射和高功率脉冲磁控溅射(Hipims),织地织地织地造成的ALN薄膜的生长沉积在Si(100)上沉积在Si(100)上
机译:用于薄膜晶体管应用的氧化锌的反应性大功率脉冲磁控溅射
机译:大功率脉冲磁控溅射镍薄膜的斜角沉积
机译:高功率脉冲磁控溅射和直流磁控溅射反应溅射ZrH2薄膜