机译:聚焦离子束制备在四方PMN-PT薄膜中的晶格取向用于透射电子显微镜
CEMES, CNRS, 29 rue Jeanne Marvig, 31055 Toulouse, France;
Department of Materials Science and Engineering, University of Wisconsin-Madison, Madison, Wisconsin 53706, USA;
Department of Materials Science and Engineering, University of Wisconsin-Madison, Madison, Wisconsin 53706, USA;
CEMES, CNRS, 29 rue Jeanne Marvig, 31055 Toulouse, France;
机译:纳米多孔低k电介质薄膜的成像:超薄切片术和聚焦离子束制备物在透射电子显微镜下的比较
机译:三脚架和聚焦离子束技术制备的脉冲激光沉积羟基磷灰石薄膜的透射电镜研究
机译:TiN和TiAlN薄膜的透射电子显微镜,使用聚焦离子束铣削制备的样品
机译:聚焦离子束样品制备,透射电子显微镜和电子能损光谱分析先进的CMOS硅技术互连
机译:MBE生长和III / V氮化物半导体薄膜结构的加工:氮化镓铟镓的生长以及离子束和电子束聚焦的纳米加工。
机译:低能电子辐照下潜在铜前体薄膜对聚焦电子束诱导沉积(FEBID)的响应
机译:通过聚焦离子束制剂对透射电子显微镜进行聚焦离子束制剂诱导的四边形PMN-PT薄膜的格子重新定位