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机译:通过同步X射线形貌,化学蚀刻和透射电子显微镜观察β-GA_2O_3单晶基材位错的脱位
Japan Fine Ceram Ctr Atsuta Ku 2-4-1 Mutsuno Nagoya Aichi 4568587 Japan;
Japan Fine Ceram Ctr Atsuta Ku 2-4-1 Mutsuno Nagoya Aichi 4568587 Japan;
Japan Fine Ceram Ctr Atsuta Ku 2-4-1 Mutsuno Nagoya Aichi 4568587 Japan;
beta-Ga2O3; X-ray topography; etch pit; TEM; dislocation;
机译:同步加速器X射线形貌观察物理气相传输生长的AIN单晶衬底中的位错及其排列
机译:通过同步X射线形貌观察物理蒸汽输送生长AIN单晶基板的位错及其阵列
机译:同步带隙白光X射线形貌,透射电子显微镜和高分辨率X射线衍射研究宽带隙半导体晶体和薄膜中的缺陷和应变松弛过程
机译:X射线透射形貌,化学刻蚀和透射电子显微镜研究4H SiC中的位错迁移率
机译:同步X射线形貌表征4H-SiC衬底的缺陷
机译:单晶同步加速器X射线衍射结合扫描透射电镜测定η -Fe3Al7 + x的晶体结构
机译:单晶同步加速器X射线衍射结合扫描透射电子显微镜确定Fe–Zn–Al体系中Γ2相的晶体结构
机译:通过TEm(透射电子显微镜)和X射线形貌并置控制高性能涂层降解的缺陷表征