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机译:使用碳掩膜在4H-SiC(0001)衬底中选择性嵌入4H-SiC沟槽的生长
Department of Electronics and Information Science, Faculty of Engineering and Design, Kyoto Institute of Technology, Matsugasaki, Sukyo, Kyoto 606-8585, Japan;
silicon carbide; selective growth; chemical vapor deposition; embedded growth; 4H-SiC trench;
机译:电子束辐照在4H-SiC(0001)衬底上Bernal双层外延石墨烯的选择性区域生长
机译:电子束辐照在4H-SiC(0001)衬底上Bernal双层外延石墨烯的选择性区域生长
机译:通过化学气相沉积在w-AlN(0001),4度切角4H-SiC(0001),W(110)和Cr(110)衬底上生长氮化硼膜
机译:使用高温掩模在4H-SiC衬底上选择性生长4H-SiC
机译:同步X射线形貌表征4H-SiC衬底的缺陷
机译:氢气下生长后退火在4H-SiC(0001)上外延石墨烯中的高电子迁移率
机译:使用氨分子束外延在4H-siC(0001)和si(111)衬底上以低生长速率生长的高质量alN(0001)层的原位NC-aFm测量