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机译:纳米级单栅,双栅和围栅场效应晶体管中随机掺杂引起的阈值电压波动的比较
Department of Communication Engineering, National Chiao Tung University, 1001 Ta-Hsueh Rd., Hsinchu 300, Taiwan;
threshold voltage fluctuation; random dopant; quantum correction; modeling and simulation; perturbation method; single gate; double gate; surrounding gate; MOSFET;
机译:纳米级金属氧化物半导体场效应晶体管中栅极边缘波动引起的随机阈值电压变化
机译:短通道三材料围栅金属氧化物半导体场效应晶体管的二维分析阈值电压模型
机译:纳米级绝缘体上硅隧穿场效应晶体管的二维阈值电压模型
机译:纳米级鳍型场效应晶体管中随机掺杂阈值电压波动的三维模拟
机译:金属氧化物半导体场效应晶体管中随机掺杂引起的阈值电压波动分析
机译:调整电解质门控有机场效应晶体管中的阈值电压
机译:场效应晶体管:多层MOS2场效应晶体管的阈值电压控制通过十八烷基氯硅烷及其应用于由增强模式逻辑门驱动的有源矩阵量子点显示器(小7/2019)
机译:Inp n沟道增强模式金属 - 绝缘体 - 半导体场效应晶体管的阈值电压漂移。