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机译:纳米晶硅嵌入锆掺杂的氧化Ha高k存储器件
Thin Film Nano and Microelectronics Research Laboratory, Texas A&M University, College Station, TX 77843-3122, U.S.A.;
nanocrystalline silicon; nc-Si; nonvolatile memory; doped high-k material; embedded nc-Si; charge trapping;
机译:纳米晶氧化钌嵌锆掺杂氧化ha高k非易失性存储器
机译:用于非易失性存储器的纳米晶氧化锌嵌入锆掺杂的氧化ha高k电介质的电荷去俘获和介电击穿
机译:用于非易失性存储器的纳米晶氧化锌嵌入锆掺杂的氧化ha高k电介质的电荷去俘获和介电击穿
机译:纳米晶氧化钌在非挥发性记忆体掺锆的氧化Ha高k膜中的嵌入
机译:纳米晶体嵌入锆掺杂的氧化ha高k栅极介电膜。
机译:具有高k铪氧化物电介质的硅纳米线用于敏感检测小核酸低聚物
机译:纳米晶嵌入锆掺杂的氧化Ha高k栅介质膜