机译:乙醇抑制Ru覆盖的多层反射镜对极紫外光刻光刻光学的污染
Laboratory of Advanced Science and Technology for Industry, University of Hyogo, 3-1-2 Kouto, Kamigoori, Ako, Hyogo 678-1205, Japan;
contamination; EUVL; multilayer; mirrors; Mo/Si; lifetime; ethanol;
机译:极紫外光刻投影光学镜面污染加速试验中的比例定律
机译:新SUBARU中用于极端紫外线平版镜污染的新型极端紫外线照射和多层评估系统
机译:在不同真空环境下,高通量极紫外光照射下,极紫外光刻光学多层反射镜反射率的非线性行为
机译:10倍投影光学器件的多层涂层,用于极端紫外线光刻
机译:钼/硅多层镜中的应力演化,用于极端紫外光刻。
机译:迈向极紫外光刻的高精度反射计
机译:<标题>具有70-nm分辨率的极端紫外光刻工具的多层光学器件 title>