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机译:调幅脉冲射频放电制备纳米复合多孔低k薄膜介电常数的温度依赖性
plasma CVD; nanoparticle; low-k; porous film; RF discharge; amplitude modulation;
机译:在AR和Ar / N_2气体混合物中通过射频溅射制造的高介电常数氮化硅薄膜
机译:射频溅射无铅K_(0.48)Na_(0.52)NbO_3薄膜的介电和电性能的频率和温度依赖性
机译:脉冲直流电和射频磁控溅射沉积的具有高介电强度的层状Al_2O_3-SiO_2和Al_2O_3-Ta_2O_5薄膜复合材料
机译:用于有机基质的环氧/ BATIO {SUB} 3复合嵌入电容膜(ECF)介电常数的频率和温度依赖性
机译:基于八氟环丁烷的等离子放电的特征,用于二氧化硅和低K介电薄膜的选择性刻蚀和处理。
机译:脉冲调制的射频交流电驱动的大气压辉光放电连续流合成银纳米粒子及其对人黑素瘤细胞的细胞毒性评估
机译:分层Al2O3-SiO2和Al2O3-Ta2O5薄膜复合材料,用于高介电强度,通过脉冲直流和射频磁控溅射沉积