机译:片上磁性膜的低温溅射控制低损耗镍锌铁氧体的组织
LSI Fundamental Research Laboratory, NEC Electronics Corporation, 1120 Shimokuzawa, Sagamihara, Kanagawa 229-1198, Japan;
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机译:电子回旋共振微波等离子体低温溅射沉积镍锌铁氧体薄膜-尖晶石铁氧体薄膜垂直磁记录介质的软磁背层
机译:使用电子 - 回旋 - 谐振微波等离子体 - 软磁背光用于尖晶石铁氧体薄膜垂直磁记录介质的低温溅射沉积镍铬镍薄膜
机译:电子回旋共振微波等离子体对Ni-Zn铁氧体薄膜的低温溅射沉积
机译:工艺参数对溅射镍锌铁氧体薄膜结构和磁性能的影响
机译:溅射钡铁氧体磁性薄膜的制备与表征
机译:La3 +取代对纳米晶Ni-Zn铁氧体结构形貌和磁性的影响
机译:组合物和氧分压在烧结气氛中对薄膜磁记录头Ni-Zn铁氧体微观结构和磁性的影响
机译:Bi2sr2CaCu2Ox溅射超导薄膜的微观结构,由低温原位生长制成。