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机译:静电对HF处理的硅晶片的复合寿命和原生氧化物生长的影响
Evaluation Technology, Silicon Business Group, Covalent Materials Co., Ltd., Seiro, Niigata 957-0197;
机译:氧化钇稳定的氧化锆薄膜在无定形层的自然氧化硅晶片上的外延生长
机译:解耦硅晶片的体寿命和表面复合速度的适当方法
机译:低光照条件下表面损伤区域和边缘复合对硅晶片有效寿命的影响
机译:金属污染在P型CZ硅晶片寿命测量中的影响及对氧化物生长的影响
机译:硅/二氧化硅界面陷阱处的电子-空穴复合以及薄氧化物MOS晶体管中的隧穿的理论和实验。
机译:不同尺寸和静电电荷的二氧化硅纳米粒子的免疫毒性
机译:硅晶片中自由载体的本体和表面复合的扩散模型:I.精确溶液和本体寿命评估
机译:EsR中心,界面态和热氧化硅晶片中的氧化物固定电荷