机译:热处理对GaAs(100)衬底上CdTe膜中1.47eV带的影响
Electronic Engineering Course, Aomori Prefectural Towada Technical Senior High School,215-1 Shimotai Sanbongi, Towada, Aomori 034-0001, Japan;
rnDepartment of Electrical and Computer Engineering, Hachinohe National College of Technology,16-1 Uwanotai, Tamonoki, Hachinohe, Aomori 039-1192, Japan;
rnDepartment of Electrical and Electronic Engineering, Yamaguchi University, 2-16-1 Tokiwadai, Ube, Yamaguchi 755-8611, Japan;
机译:在GaAs(100)衬底上使用高质量CdTe(100)膜对InSb / CdTe和PbTe / CdTe异质体系进行分子束外延生长
机译:在GaAs(100)衬底上使用高质量CdTe(100)膜对InSb / CdTe和PbTe / CdTe异质体系进行分子束外延生长
机译:使用高质量CDTE(100)薄膜在GaAs(100)基板上的分子束外延生长INSB / CDTE和PBTE / CDTE异质系统
机译:(100)GaAs衬底上高质量CdTe膜的分子束外延生长
机译:GaAs(100)衬底上的纳米线的生长
机译:GaAs(001)上生长的高质量100 nm厚InSb膜具有InxAl1-xSb连续渐变缓冲层的基板
机译:H2热处理对GaAs基材生长的CDTE薄膜结晶的影响