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机译:四点栅极电阻测量方法对绝缘硅上金属氧化物半导体场效应晶体管中栅极多晶硅耗尽对沟道温度评估的影响
Department of Physical Electronics, Tokyo Institute of Technology, Meguro, Tokyo 152-8552, Japan;
Department of Physical Electronics, Tokyo Institute of Technology, Meguro, Tokyo 152-8552, Japan;
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机译:短沟道全耗尽双材料栅绝缘体上金属-氧化物-半导体场效应晶体管的新分析模型
机译:辐射引起的反向沟道泄漏和反向栅极偏置对薄栅氧化物部分耗尽绝缘硅上n沟道金属氧化物半导体场效应晶体管的漏电流瞬态的影响
机译:动态应力对在互补金属氧化物半导体逆变器中在高温下工作的带有SiON栅极电介质的纳米级n沟道金属氧化物半导体场效应晶体管可靠性的影响
机译:栅极湿法再氧化对在4H-SiC上制造的金属氧化物半导体场效应晶体管的可靠性和沟道迁移率的影响(0001)
机译:机械应力对硅和锗金属氧化物半导体器件的影响:沟道迁移率,栅极隧穿电流,阈值电压和栅极堆叠
机译:全方位栅InAs纳米线金属氧化物半导体场效应晶体管中的高度栅可调Rashba自旋轨道相互作用
机译:氧化ha门控锗p沟道金属氧化物半导体场效应晶体管的低温迁移率
机译:在蓝宝石上的500 a薄膜硅中制造具有0.2微米栅极长度的n沟道金属氧化物半导体场效应晶体管。 (重新公布新的可用性信息)