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机译:电子束光刻中通过束步大小压裂技术降低Si光波导的损耗
Department of Electrical and Electronic Engineering, Tokyo Institute of Technology, Meguro, Tokyo 152-8552, Japan;
GenlSys GmbH, Taufkirchen D-82024, Germany;
Department of Electrical and Electronic Engineering, Tokyo Institute of Technology, Meguro, Tokyo 152-8552, Japan;
Department of Physical Electronics, Tokyo Institute of Technology, Meguro, Tokyo 152-8552, Japan;
Department of Electrical and Electronic Engineering, Tokyo Institute of Technology, Meguro, Tokyo 152-8552, Japan,Quantum Nanoelectronics Research Center, Tokyo Institute of Technology, Meguro, Tokyo 152-8552, Japan;
机译:通过使用C_(60)双层抗蚀剂掩模的电子束光刻和反应离子刻蚀的边缘增强写入法制造的Si线波导的损耗降低
机译:富勒烯辅助电子束光刻技术,用于InP薄膜波导器件中的图形改进和损耗减少
机译:低损耗,高限制硅光波导的电子束光刻写入策略
机译:使用基于SEM的电子束光刻(EBL)技术形成单电子晶体管的纳米线:正电势与负电势电子束电阻
机译:通过熔融石英电子束辐照制成的光波导的特性。
机译:电子束和光学光刻技术在医药领域的聚乙二醇水凝胶结构的制备
机译:富勒烯辅助电子束光刻技术,用于InP薄膜波导器件中的图形改进和损耗减少
机译:用电子束光刻法制造的聚酰亚胺光波导