机译:大规模生产等离子蚀刻设备中用于腔室部件的氧化镁基陶瓷的开发和评估
Natl Inst Adv Ind Sci & Technol, Adv Mfg Res Inst, Tosu, Saga 8410052, Japan;
Nippon Tungsten Co Ltd, Res & Dev Ctr, Kiyama, Saga 8410203, Japan;
Nippon Tungsten Co Ltd, Res & Dev Ctr, Kiyama, Saga 8410203, Japan;
Natl Inst Adv Ind Sci & Technol, Adv Mfg Res Inst, Tosu, Saga 8410052, Japan;
机译:通过将导电镁氧化物基氧化物陶瓷用于常规电极材料,用于等离子体蚀刻的常规电极材料来减少颗粒
机译:批量生产的等离子刻蚀设备中因脉冲力突然产生的片状颗粒尺寸增加
机译:大量生产的等离子刻蚀设备中微弧放电瞬间产生的大量片状颗粒
机译:使用负载阻抗监测系统的用于在大规模生产的等离子蚀刻工艺中监测沉积膜引起颗粒的方法
机译:在感应耦合等离子体反应器中研究碳氟化合物沉积和蚀刻对硅和二氧化硅蚀刻工艺的影响(使用三氟化甲基),并开发了用于研究等离子体与表面相互作用机理的反应离子束系统。
机译:使用Y2O3和YF3保护涂层的量产CF4 / O2等离子腔室中的腐蚀行为和颗粒污染的比较
机译:通过脉冲力在大规模生产等离子体蚀刻设备中突然产生的片状颗粒的尺寸增加