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用于减少等离子体蚀刻腔室中的污染的设备

摘要

本文提供用于在基板支撑件中使用的工艺配件部件的实施方式以及结合有所述实施方式的基板支撑件。在一些实施方式中,所述基板支撑件可以包括:主体;接地外壳,所述接地外壳由围绕所述主体设置的导电材料形成;衬里,所述衬里由围绕所述接地外壳设置的导电材料形成,其中所述衬里包括朝向所述主体向内延伸的上唇缘;金属紧固件,所述金属紧固件穿过所述上唇缘设置以将所述衬里耦接到所述接地外壳;以及第一绝缘体环,所述第一绝缘体环设置在所述衬里的所述上唇缘顶上并覆盖所述金属紧固件。

著录项

  • 公开/公告号CN210110704U

    专利类型实用新型

  • 公开/公告日2020-02-21

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 应用材料公司;

    申请/专利号CN201920905971.9

  • 发明设计人 X·常;A·恩古耶;

    申请日2019-06-17

  • 分类号

  • 代理机构上海专利商标事务所有限公司;

  • 代理人侯颖媖

  • 地址 美国加利福尼亚州

  • 入库时间 2022-08-22 12:42:07

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2020-02-21

    授权

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