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机译:大量生产的等离子刻蚀设备中微弧放电瞬间产生的大量片状颗粒
Measurement Solution Research Center, National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (AIST), Tosu, Saga 841-0052, Japan;
Measurement Solution Research Center, National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (AIST), Tosu, Saga 841-0052, Japan;
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机译:作用于量产等离子刻蚀设备内壁上的电场应力脉冲力瞬时产生许多片状颗粒
机译:批量生产的等离子刻蚀设备中因脉冲力突然产生的片状颗粒尺寸增加
机译:大量生产的等离子刻蚀设备中,电场应力的脉冲力和电致伸缩应力的作用导致许多片状颗粒
机译:由微弧放电引起的许多片状颗粒的瞬时生成以及使用负载阻抗监控系统的检测方法— shima岛裕二
机译:电子束生成等离子体中高级抗蚀剂蚀刻的比较。
机译:使用Y2O3和YF3保护涂层的量产CF4 / O2等离子腔室中的腐蚀行为和颗粒污染的比较
机译:通过脉冲力在大规模生产等离子体蚀刻设备中突然产生的片状颗粒的尺寸增加