机译:阈值电压提取技术可从亚微米CMOS到大面积氧化物TFT技术
IIIT Delhi, Dept Elect & Commun, Delhi, India;
IIIT Delhi, Dept Elect & Commun, Delhi, India;
IIIT Delhi, Dept Elect & Commun, Delhi, India;
UNL, CEMOP UNINOVA, FCT, CENIMAT I3N,Dept Ciencia Mat, P-2829516 Caparica, Portugal;
UNL, FCT, Dept Elect Engn, P-2829516 Caparica, Portugal|CTS UNINOVA, P-2829516 Caparica, Portugal;
threshold voltage extraction techniques; dynamic source follower; oxide TFTs; large-area electronics; sub-micron designs;
机译:采用0.18 / spl mu / m片上系统CMOS技术的多阈值电压和多击穿电压CMOS器件设计点的质子公差
机译:采用PD SOI的0.7 V曼彻斯特超前提前电路CMOS非对称动态阈值通过晶体管技术,适用于低压CMOS VLSI系统
机译:适用于亚微米技术的新型低压CMOS差分OTRA
机译:源/排水植入物对深层微米CMOS技术阈值电压匹配的影响
机译:基于阈值电压差架构的CMOS技术的低于1V的电源参考电压。
机译:为低压可穿戴传感器应用而优化的超薄印刷有机TFT CMOS逻辑电路的制造
机译:金属栅电极和用于子32nm散装CMOS技术的高电胶:用于低阈值电压器件应用的氧化镧覆盖层的应用