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机译:铋基层状铁电薄膜的非铁电性能
ferroelectric thin film; non volatile memory; Bi base layer structured ferroelectrics;
机译:等离子体增强原子层沉积的HfO_2缓冲层对用于非易失性存储应用的金属/铁电/绝缘体/半导体栅堆叠的结构,电和铁电性能的影响
机译:等离子体增强原子层沉积HFO2铁电薄膜,用于非易失性存储器应用
机译:铋层钙钛矿薄膜在FET型铁电存储器中的应用
机译:C轴和非C轴的铁电性能表征,其外延生长层结构的铁电薄膜用MOCVD制备的不同M号
机译:用于非易失性存储应用的激光烧蚀铋层铁电薄膜的研究。
机译:机械载荷对铁电超薄膜中纳米域稳定性的影响:灵活擦除非易失性存储器
机译:BI3.25LA0.75TI3O12的铁电特性,具有欧盟含量的非易失性存储器件应用的薄膜