ガラス基板上へのパターン化に成功した酸化亜鉛（ZnO）薄膜蛍光体: スパッタリングによる薄膜成長、ウェットエッチング、熱処理を経て

摘要

The development of new and high efficient phosphor has been an important technology for the display industry. In order to overcome the remained problems of powder phosphor and lower the fabrication cost, we developed a novel technique for fabricating ZnO thin film phosphor on the glass substrate directly at the low temperature. This fabricated ZnO thin film phosphor has the promising features including higher coherency, uniformity, flatness regarding to the disadvantage of the power phosphor. Particularly, the ZnO thin film phosphor, showing high luminance of blue-green, was easily and precisely patterned on large area (φ100 mm) by wet etching method.%非常に効率の良い蛍光体の開発は、ディスプレイ産業界の発展につながる。蛍光体は、現在粉末蛍光体が主体であり、保持の問題やマイクロサイズでのムラ、環境耐性などに問題があるいわれている。そこで我々は、上記問題を解決できる薄膜蛍光体に注目し、酸化亜鉛（ZnO）薄膜蛍光体の開発をおこなった。これまでの開発により、ガラス基板上に直接作製する技術を開発し、昨年、世界最高レベルの発光強度の酸化亜鉛薄膜蛍光体の作製に成功した。今回は、φ100mmガラス基板上に直接成長した酸化亜鉛薄膜蛍光体のパターン化に成功したので、作製方法や、薄膜蛍光体の特性等について報告する。