机译:优化光掩模设计以减少像差引起的放置误差
Aberration; Alternating phase-shifting mask (PSM); Attenuated PSM; Monte Carlo analysis; Optimization; Photomask; Placement error;
机译:光刻胶中的抗带电效应:其对图案放置误差和临界尺寸的影响
机译:使用进化优化最小化估计误差的特征值和性能测量的最佳设计
机译:光照相术:光掩模优化模型可减少光学像差的影响
机译:在光掩模外围设备中使用套准控制(RegC〜®)技术校正图像放置错误
机译:传感器放置优化,可补偿机床上的热误差。
机译:基于肾功能的决策支持工具的设计开发和部署优化治疗和减少药物给药错误
机译:优化光掩模设计以减少像差引起的放置误差