机译:新型大型MOCVD反应器中外延生长GaN薄膜的现象
Key Laboratory of Advanced Display and System Applications, Shanghai University, Ministry of Education, Shanghai, China;
GaN; light-emitting diodes; metal organic chemical vapor deposition (MOCVD); numerical simulation;
机译:MOCVD反应器中碲化镉薄膜沉积过程和外延生长的数值模拟
机译:压力和气体进料速率对垂直MOCVD反应器中GaN薄膜生长速率分布的影响
机译:压力和气体进料速率对垂直MOCVD反应器中GaN薄膜生长速率分布的影响
机译:具有三个径向向内流动的MOCVD反应器的新颖设计GaN薄膜外延生长
机译:通过MOCVD生长的高导电性和透明氧化镉薄膜:外延生长和掺杂效应
机译:离子束辅助沉积外延GaN薄膜
机译:CVD材料处理。压力输出速率对垂直MOCVD反应器中GaN薄膜生长速率分布的影响。
机译:外延YBa2Cu3O(7-x)薄膜:扫描隧道显微镜研究外延生长的初始阶段,生长机制和衬底温度的影响。