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【6h】

BGaN薄膜的MOCVD法外延生长研究

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第一章 绪论

1.1 研究背景

1.2 GaN材料简介

1.3 BGaN材料的研究介绍

1.4 本文主要研究内容

第二章 材料生长设备与表征方法

2.1 III族氮化物材料的生长方法

2.2 材料的表征方法

2.3本章小结

第三章 BGaN薄膜表面形貌的优化研究

3.1 引言

3.2 生长厚度对BGaN薄膜表面形貌的影响

3.3 生长温度对BGaN薄膜表面形貌的影响

3.4 生长压力对BGaN薄膜表面形貌的影响

3.5 B/III比对BGaN薄膜表面形貌的影响

3.6 本章小结

第四章 BGaN薄膜中B的并入效率研究

4.1 引言

4.2 生长厚度对BGaN中B的并入效率的影响。

4.3 生长温度对BGaN中B的并入效率的影响

4.4 生长压力对BGaN中B的并入效率的影响

4.5 B/III比对BGaN中B的并入效率的影响

4.6 本章小结

结论

参考文献

作者简介及科研成果

致谢

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著录项

  • 作者

    曹越;

  • 作者单位

    吉林大学;

  • 授予单位 吉林大学;
  • 学科 微电子学与固体电子学
  • 授予学位 硕士
  • 导师姓名 张源涛;
  • 年度 2020
  • 页码
  • 总页数
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 chi
  • 中图分类
  • 关键词

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