...
机译:晶圆等离子处理温度反馈控制系统及其在有机膜刻蚀中的应用
Graduate School of Engineering, Nagoya University, Nagoya, Japan;
Feedback control; organic film; plasma etching; semiconductor manufacturing; wafer temperature;
机译:等离子刻蚀硅晶圆表面温度监控系统
机译:等离子刻蚀硅晶圆表面温度监控系统
机译:通过使用精确温度控制的等离子刻蚀系统对有机材料进行自上而下的自限修剪来制造的狭窄独立式特征
机译:多变量控制在等离子体蚀刻系统晶片到晶圆控制中的应用 - (PPT)
机译:使用原位椭偏仪在快速热处理中测量和控制硅片温度和氧化膜厚度。
机译:可控真空过滤制备晶圆级结晶碳纳米管薄膜的科学与应用
机译:先进的耐腐蚀材料及其对半导体硅晶片制造中的等离子体蚀刻工艺的系统研究与表征
机译:基于过程建模和原位传感器反馈的分子束外延和离子辅助反应蚀刻的先进半导体结构自适应控制。