...
机译:结掺杂分布对带有薄盒层MOSFET的绝缘子上完全耗尽硅的器件性能变异性和可靠性的影响
Department of Electrical Engineering, National University of Kaohsiung, Kaohsiung, Taiwan;
Doping; Junctions; Logic gates; MOSFET; MOSFET circuits; Performance evaluation; Threshold voltage; Device variability; FDSOI; device variability; junction doping distribution; reliability; ultrathin buried oxide (UTB);
机译:具有垂直高斯掺杂分布的短沟道薄型全耗尽绝缘体上硅MOSFET的电势和阈值电压的解析模型
机译:完全耗尽的绝缘体MOSFET中的反转层电子迁移率分布
机译:动态耗尽绝缘体上硅MOSFET的表面电势方程的显式逼近,用于性能和可靠性仿真
机译:完全耗尽的薄盒硅(SOTB)MOSFET的漏极电流可变性降低
机译:在绝缘体纳米MOSFET上使用单层栅极完全耗尽的硅进行分子感测。
机译:使用双层门绝缘子在GaN-on-Si垂直沟槽MOSFET中:对性能和可靠性的影响
机译:具有横向双门的高性能超薄体超薄盒绝缘体MOSFET的分析:具有DIBL的抑制