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机译:使用氢热处理技术的具有改善的线边缘粗糙度和线宽粗糙度的优化FinFET沟道
Surface treatment; FinFETs; Surface morphology; Hydrogen; Rough surfaces; Surface roughness; Monte Carlo methods;
机译:光纳米压印光刻与热处理相结合以改善抗蚀剂图案线条边缘的粗糙度
机译:纳米CMOS技术中线边缘粗糙度(LER)和线宽粗糙度(LWR)的研究:第一部分–建模和仿真方法
机译:纳米级CMOS技术中线边缘粗糙度(LER)和线宽粗糙度(LWR)的研究:第二部分-实验结果及其对器件可变性的影响
机译:通过原位ALD数字O
机译:极紫外光刻中掩模的粗糙度引起的线边缘粗糙度
机译:通过使用非化学放大的抗蚀剂和曝光后烘烤来制造具有改善的线边缘粗糙度的高分辨率掩模
机译:工作函数变化和线边缘粗糙度对TFET和FinFET器件以及32位CLa电路的影响