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Electrical characterisations of new microgap surge absorber fabricated by using conventional semiconductor technology

机译:使用常规半导体技术制造的新型微间隙电涌吸收器的电气特性

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摘要

The structure of the microgap and the manufacturing processes for a new type of microgap surge absorber, fabricated by semiconductor technology, are described. A very stable spark-over voltage with a narrow distribution was obtained by coating the metallic films in the microgap.
机译:描述了通过半导体技术制造的新型微间隙电涌吸收器的微间隙结构和制造工艺。通过在微间隙中涂覆金属膜,可以获得分布窄的非常稳定的火花放电电压。

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