机译:适用于0.5μm至0.25μm器件制造的高级电子束光刻
机译:电子束光刻和软光刻技术制造和集成聚合物集成光学器件
机译:用于电子束光刻的高对比度3D接近校正:一种用于制造悬浮掩模的使能技术,用于在超高压环境中完成器件制造
机译:使用紫外线可固化正性电子束光刻胶,通过紫外-纳米压印光刻和电子束光刻进行微通道制造
机译:用于纳米器件制造的5纳米级电子束光刻
机译:纳米球光刻及其在等离子体经济氢化非晶硅光伏器件的快速经济制造中的应用。
机译:像差校正电子束光刻对悬浮石墨烯器件电子传输的影响的原位研究
机译:用于电子束光刻的高对比度3D接近校正:用于制造悬挂掩模的使能技术,用于在UHV环境中完成器件制造