机译:C-2W装置中石墨烯涂层钨的氘等离子体轰击对外部分流器造成的损害
Univ Wisconsin, Madison, WI 53706 USA;
Univ Ottawa, Ottawa, ON, Canada;
TAE Technol, Lake Forest, CA USA;
Univ Wisconsin, Madison, WI 53706 USA;
Univ Wisconsin, Madison, WI 53706 USA;
Univ Wisconsin, Madison, WI 53706 USA;
TAE Technol, Lake Forest, CA USA;
Graphene; tungsten; deuterium; divertor; C-2W;
机译:C-2W装置中石墨烯涂层氘轰击氘抗血浆的外部转移损伤表征
机译:等离子体处理 - 等离子体过程诱导损伤电子设备离子轰击损伤的特征技术
机译:DIII-D中置换损伤对暴露于偏滤器等离子体的钨中氘保留的影响
机译:由于氘和铍离子在等离子体中的同时轰击导致碳和钨对碳和钨的动态腐蚀和沉积
机译:离子束损坏的钨在等离子体中注入氘的扩散,俘获和同位素交换。
机译:关于电致变色器件氧化锌和钨三氧化钨的表征及电化学分析的数据
机译:位移损伤对ITER级钨暴露于低能量,高通量纯和氦接种氘等离子体中氘保留的影响