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形成耐等离子体涂层的方法、装置、零部件和等离子体处理装置

摘要

一种零部件上形成耐等离子体涂层的方法、形成涂层的装置、零部件和处理装置,形成涂层的装置包括:真空腔;第一涂覆材料源、第二涂覆材料源和零部件,位于真空腔内;第一涂覆材料源包含氧原子和钇原子;第二涂覆材料源包括钇氟化合物,铝氧化合物或锆氧化合物中的一种;第一激发装置,用于激发出第一涂覆材料源内的钇原子和氧原子;第二激发装置,用于激发出第二涂覆材料源内的原子;所述第一涂覆材料源内激发出的钇原子和氧原子与第二涂覆材料源内激发出的原子之间发生化学反应在零部件上形成包括具有稳定相的钇基多元金属氧化物或钇基氧氟化物的耐等离子体涂层。利用所述装置形成的涂层耐等离子体腐蚀的能力较强。

著录项

  • 公开/公告号CN112899617A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-06-04

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 中微半导体设备(上海)股份有限公司;

    申请/专利号CN201911227763.9

  • 发明设计人 段蛟;郭盛;孙祥;陈星建;

    申请日2019-12-04

  • 分类号C23C14/08(20060101);C23C14/06(20060101);C23C14/34(20060101);C23C14/26(20060101);C23C14/28(20060101);C23C14/30(20060101);H01J37/32(20060101);

  • 代理机构31323 上海元好知识产权代理有限公司;

  • 代理人徐雯琼;张静洁

  • 地址 201201 上海市浦东新区金桥出口加工区(南区)泰华路188号

  • 入库时间 2023-06-19 11:16:08

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2023-03-31

    授权

    发明专利权授予

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