公开/公告号CN112899617A
专利类型发明专利
公开/公告日2021-06-04
原文格式PDF
申请/专利权人 中微半导体设备(上海)股份有限公司;
申请/专利号CN201911227763.9
申请日2019-12-04
分类号C23C14/08(20060101);C23C14/06(20060101);C23C14/34(20060101);C23C14/26(20060101);C23C14/28(20060101);C23C14/30(20060101);H01J37/32(20060101);
代理机构31323 上海元好知识产权代理有限公司;
代理人徐雯琼;张静洁
地址 201201 上海市浦东新区金桥出口加工区(南区)泰华路188号
入库时间 2023-06-19 11:16:08
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2023-03-31
授权
发明专利权授予
机译: 形成等离子体抗性涂层,零件和等离子体处理装置的方法和装置
机译: 用于形成等离子体抗性涂层,部件和等离子体处理装置的方法和装置
机译: 用于形成等离子体涂层的方法,装置,部件和等离子体处理装置