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【24h】

High power RF operation of AlGaN/GaN HEMTs grown on insulating silicon carbide substrates

机译:在绝缘碳化硅衬底上生长的AlGaN / GaN HEMT的高功率RF操作

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摘要

Excellent RF performance is reported for AlGaN HEMTs fabricated on electrically insulating SiC substrates. The transistors have an f/sub max//spl ap/42 GHz, and an f/sub T//spl ap/15 GHz. At 10 GHz, 320 /spl mu/m wide transistors had a total power of 900 mW with a gain of 6.5 dB, which corresponds to a power density of 2.8 W/mm.
机译:据报道,在电绝缘SiC衬底上制造的AlGaN HEMT具有出色的RF性能。晶体管具有f / sub max // spl ap / 42 GHz和f / sub T // spl ap / 15 GHz。在10 GHz时,320个/ spl mu / m宽的晶体管的总功率为900 mW,增益为6.5 dB,对应于2.8 W / mm的功率密度。

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