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【2h】

Power RF-Operation of AlGaN/GaN HEMTs Grown on Insulating Silicon Carbide Substrates

机译:在绝缘碳化硅衬底上生长的AlGaN / GaN HEMT的功率RF操作

摘要

We report on the technology and microwave characterization of AlGaN/GaN power HEMTs on SiC substrate. DC and S-parameter are discussed, together with load-pull results on devices up to 4mm gate width. A power density of 5.2 W/mm is obtained for devices up to 2 mm gate width. The maximum power level achieved is 13.8 W at 2 GHz. ud
机译:我们报告了SiC衬底上的AlGaN / GaN功率HEMT的技术和微波表征。讨论了直流和S参数,以及在栅极宽度最大为4mm的器件上的负载牵引结果。对于栅极宽度最大为2 mm的器件,功率密度为5.2 W / mm。在2 GHz时达到的最大功率为13.8W。 ud

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