机译:集成淬火的单光子雪崩光电探测器,采用TSMC 0.18μm1.8 V CMOS工艺制造
Department of Electrical and Computer Engineering, The Johns Hopkins University, 3400 N. Charles Street, Baltimore, MD 21218, USA;
机译:高光子检测效率单光子雪崩二极管在0.18 mu m标准CMOS工艺中
机译:采用标准CMOS0.18-μM技术的全集成单光子雪崩二极管检测器
机译:暗计数率的温度依赖性和在0.35μmCMOS中的集成有源淬火电路脉冲单光子雪崩二极管之后
机译:在1.8V,0.18µm工艺中用于单光子雪崩检测器的自猝灭,正向偏置复位
机译:CMOS单光子雪崩二极管和微机械滤光片,用于集成荧光传感。
机译:应用于CMOS图像传感器的单光子雪崩二极管(SPAD)中的电容弛豫猝灭建模与分析
机译:以常规CMOS工艺制造的用于触发系统的门控单光子雪崩二极管阵列