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Durchbruch bei kupfergefüllten Microvias

机译:铜填充微孔的突破

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摘要

Andus hat einen neuen Inhouse-Prozess zum galvanischen Verfallen von Microvias qualifiziert und freigegeben. Damit ist man jetzt in der Lage, verschlossene Microvias anzubieten, die vonrnaußen nicht mehr sichtbar sind. Gegenüber anderen Füll-Verfahren weisen diese neuen Microvias zwei Verbesserungen auf: 1.Die Schichtdicke des Basiskupfers wird im Prozess nicht verändert.
机译:安达斯(Andus)已批准并发布了一种针对内部微孔电流衰减的新内部流程。这意味着您现在可以提供从外部不再可见的封闭微孔。与其他填充工艺相比,这些新的微通孔有两个改进:1.在该过程中,基础铜的层厚未更改。

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  • 来源
    《Elektronik》 |2009年第14期|47|共1页
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