机译:碳掺杂GaAs少数载流子注入装置的降解机理[HBTs]
机译:少数载流子注入下重掺杂碳的砷化镓引起的降解中与氢和碳有关的缺陷
机译:偏压和温度应力下碳掺杂InP / InGaAs HBT中基极-发射极结的初始降解
机译:使用新的直接参数提取技术分析pnp型AlGaAs / GaAs HBT的器件参数,包括高注入
机译:碳掺杂GaAs少数载流子注入器件的降解机理
机译:硅锗HBT和VCO中热载流子引起的降解和伽马射线引起的降解。
机译:InGaAs上Al2O3原子层沉积的初始过程:界面形成机理及其对金属-绝缘体-半导体器件性能的影响
机译:少数碳掺杂GaAs在少数载体注射下氢气和碳掺杂GaAs诱导降解的氢气相关缺陷
机译:变质HBT:在Gaas衬底上生长的Inp / InGaas / Inp器件。