机译:液相氧化InAlAs作为栅极绝缘体改善InAlAs / InGaAs金属-氧化物-半导体变质HEMT中的碰撞电离效应和亚阈值电流
III-V semiconductors; MIS devices; dielectric materials; gallium arsenide; high electron mobility transistors; impact ionisation; indium compounds; leakage currents; oxidation; semiconductor device breakdown; III-V compound semiconductor devices; InAlAs layer; InAlA;
机译:InAlAs的氧化及其在InAlAs / InGaAs金属氧化物半导体高电子迁移率晶体管栅绝缘子中的应用
机译:具有液相氧化的InGaAs栅极的InAlAs / InGaAs变质高电子迁移率晶体管中的击穿电压和冲击电离得到改善
机译:InAlAs / InGaAs变质MOS-mHEMT的高性能电液相HBr氧化栅绝缘体
机译:氧化InGaAs栅极的InAlAs / InGaAs变质HEMT直流特性的分析研究
机译:使用门控霍尔法提取InGaAs金属氧化物半导体结构中的载流子迁移率和界面陷阱密度。
机译:倒置型Inalas / INAS高电子 - 移动晶体管具有液相氧化INALAS作为栅极绝缘体
机译:从0.1栅极InGaAs / InAlAs / GaAs变质HEMT产生的fmax = 433GHz