机译:双浮栅结构的SRAM中阈值电压漂移自动改变的数值模拟
Corporate R&D center, Toshiba Corporation, Kawasaki, Japan;
Analytical model; Floating gate (FG); static random access memory (SRAM); threshold shift;
机译:Ge渗透到28nm SRAM的PMOSFET通道中引起的明显阈值电压漂移
机译:局部电子注入非对称通过栅晶体管6T-SRAM中阈值电压变化的自收敛的近阈值电压字线电压注入方案
机译:正偏置温度不稳定性中的负阈值电压漂移和掺钇的HfO_2栅介质的负偏置温度不稳定性的正阈值电压漂移的研究
机译:可通过Vth移位的SRAM单元TEG直接测量阈值电压变化的抗扰度
机译:研究氧化镧(III)对锡/二氧化ha /氧化镧/二氧化硅/硅叠层的阈值电压偏移效应。
机译:LaAlO3 / SrTiO3异质结构中电场引起的阈值电压漂移
机译:辐射应力影响对P沟道功率VDMOS晶体管阈值电压影响的建模与PSPICE模拟
机译:基于商用sRams中mOsFET阵列的阈值偏移的剂量测量