机译:掺铁缓冲剂在AlGaN / GaN HEMT中的俘获效应的应用相关性评估
Department of Microtechnology and Nanoscience, Chalmers University of Technology, Gothenburg, Sweden;
Dispersion; gallium nitride (GaN); high electron mobility transistors (HEMTs); semiconductor device doping; trap levels; trap levels.;
机译:掺铁的AlGaN / GaN HEMT中的缓冲陷阱:基于脉冲和瞬态测量的物理性质研究
机译:无意识掺杂的GaN缓冲层中陷阱水平对优化的p-GaN栅极AlGaN / GaN HEMT的影响
机译:用Fe掺杂缓冲液中的AlGaN / GaN高电子迁移晶体管栅极断开状态应力诱导的捕获效应
机译:AlGaN / GaN HEMT中Fe掺杂的GaN缓冲对SiC衬底的影响
机译:研究常关模式的AlGaN / GaN MOS HEMT器件,该器件利用栅极后退和p-GaN栅极结构以及带有醛生长的高k栅极绝缘体来实现高功率应用。
机译:使用AlGaN / GaN / AlGaN量子阱电子阻挡层的AlGaN / GaN HEMT中的高击穿电压
机译:通过低频s参数测量和基于TCaD的物理器件仿真识别微波功率alGaN / GaN HEmT中的GaN缓冲阱