机译:替代AlGaN / GaN MISFET中常规电介质的顺电层
National Key Laboratory of Science and Technology on Monolithic Integrated Circuits and Modules, Nanjing Electronic Devices Institute, Nanjing, China;
Dielectric materials; metal–insulator–semiconductor (MIS) devices; paraelectrics; switchable polarization;
机译:氢对具有LPCVD-SiNx栅极电介质的AlGaN / GaN MISFET的影响
机译:AlGaN / GaN基MISFET的单项烧尽和硬化研究
机译:200°C常关AlGaN / GaN MISFET,漏极电流密度为321 mA / mm,击穿电压为1055 V
机译:通过保留无损伤的薄AlGaN势垒层来实现低Ron和高V常态GaN MISFET的平衡方法
机译:Algan / GaN Moshfet使用ALD电介质:性能和可靠性研究
机译:质子辐照对常断型AlGaN / GaN栅嵌入式金属-绝缘体-半导体异质结构场效应晶体管随时间变化的介电击穿特性的影响
机译:用于GaN / AlGaN / GaN MOS HEMT的低温原子层沉积生长的Al2O3栅极电介质:沉积条件对界面态密度的影响
机译:用于GaN,GaN / alGaN和GaN / InGaN核壳纳米线中少数载流子扩散的无接触测量的传输成像。