机译:具有渐变刻蚀结终止扩展的高压4H-SiC晶闸管
French–German Research Institute of Saint Louis, Saint Louis, France;
Gate turn-off (GTO); ion implantation; reactive ion etching; silicon carbide (SiC); termination; thyristor;
机译:高压4H-SiC栅极关断晶闸管的三步结终止扩展的仿真和实验研究
机译:具有蚀刻结终止扩展的高压4H-SiC PiN二极管
机译:斜面结终止扩展— 4H-SiC高压器件的新型边缘终止技术
机译:具有多个浮区结扩展的高压4H-SiC GTO晶闸管
机译:高压碳化硅结整流器和GTO晶闸管。
机译:具有氩注入边缘端接的高压β-Ga2O3肖特基二极管
机译:高压4H-SiC PiN二极管结终端结构的仿真和实验研究