机译:具有新型六边形结构的650 V超结MOSFET,具有出色的静态性能和高BV弹性以应对电荷不平衡:TCAD仿真研究
Department of Electrical and Computer Engineering, College of Engineering, Seoul National University, Seoul, South Korea;
Department of Electrical and Computer Engineering, College of Engineering, Seoul National University, Seoul, South Korea;
MOSFET; Doping; Resilience; Electric fields; Silicon; Power semiconductor devices; Integrated circuits;
机译:与线性,方形和六边形拓扑相比,静态静态,动态和短路性能的卓越静态,动态和短路性能的演示与线性,方形和六边形拓扑相比
机译:通过TCAD模拟研究SiC MOSFET的氧化物诱捕
机译:使用TCAD模拟研究传统和环绕栅极MOSFET
机译:高压超结功率MOSFET导通状态电荷不平衡的仿真研究
机译:多栅极绝缘体上硅MOSFET器件结构的开关和RF性能的设计,仿真和分析
机译:结合不同研究类型并针对协变量不平衡进行调整的贝叶斯层次模型:评估模型性能的模拟研究
机译:亚100nm高k MOSFET结构中剂量辐射效应的TCAD模拟
机译:水泥和水充电不平衡对8立方堆场中央混凝土搅拌机搅拌性能的影响。案例研究