机译:等离子体增强原子层沉积与离散馈电方法的生长行为和薄膜性能
机译:等离子体化学气相沉积和原子层沉积相结合沉积的掺Ge Sb-Te薄膜的生长和相分离行为
机译:等离子体增强原子层沉积沉积的透明二氧化钛薄膜
机译:衬底对等离子体增强原子层和化学气相沉积相结合对Ge2Sb2Te5薄膜成核和生长行为的影响
机译:通过等离子体增强的原子层沉积生长二氧化钛薄膜
机译:用于直接板衬和铜扩散阻挡层应用的钌-氮化钛混合相层的等离子体增强原子层沉积。
机译:通过等离子体增强的原子层沉积使用四甲基(二甲基氨基)钛(TDMAT)和四氯化钛(TiCl4)前体制备的锡薄膜的数据集
机译:通过等离子体增强的原子层沉积使用四甲基(二甲基氨基)钛(TDMAT)和四氯化钛(TiCl4)前体制备的锡薄膜的数据集