Kinetic analysis of the chemical processes in the decomposition of gaseous dielectrics by a non-equilibrium plasma - part 1: CF4 and CF4/O2

摘要

A integra??o numérica das equa??es diferenciais ordinárias que descrevem um sistema cinético e a análise de sensibilidade dos resultados aos parametros s?o metodologias cada vez mais utilizadas na cinética química. Neste trabalho, é apresentado um estudo de simula??o numérica da decomposi??o em fases gasosa de CF4 e de misturas CF4/O2 na presen?a de silício. é analisada a importancia relativa dos processos individuais e s?o calculados os coeficientes de sensibilidade e o efeito da incerteza nos parametros. Os resultados s?o comparados com dados experimentais da literatura para ajustar os parametros do modelo. O principal agente de corros?o neste sistema é o flúor at?mico. As concentra??es das principais espécies (SiF4, CO, CO2 e COF2) dependem da composi??o da mistura.