Kinetic analysis of the chemical processes in the decomposition of gaseous dielectrics by a non-equilibrium plasma - part 2: SF6 and SF6/O2

摘要

Neste trabalho é realizada a simula??o numérica da decomposi??o em fase gasosa de SF6 e misturas de SF6/O2, na presen?a de silício. S?o determinadas as velocidades relativas dos processos individuais, o efeito da incerteza dos parametros e os coeficientes de sensibilidade. Os resultados s?o comparados com dados experimentais encontrados na literatura e resultados calculados previamente para a corros?o do silício, a fim de ajustar os parametros do modelo. à semelhan?a do que acontece com o CF4, o principal agente de corros?o é o flúor at?mico e a concentra??o das principais espécies envolvidas depende da composi??o da mistura. A forma das curvas de sensibilidade segue o formato geral das curvas que representam a velocidade dos processos individuais e a rela??o entre os coeficientes de sensibilidade calculados para as diferentes etapas de rea??o é uma medida da contribui??o de cada uma ao processo total.