机译:非平衡等离子体分解气相电介质分解中的化学过程的动力学分析 - 第1部分:CF4和CF4 / O2
机译:非平衡等离子体分解气态电介质中化学过程的动力学分析-第1部分:CF4和CF4 / O2
机译:非平衡等离子体分解气态电介质中化学过程的动力学分析-第2部分:SF6和SF6 / O2
机译:对硅蚀刻中使用的气体混合物的等离子体中的化学过程进行建模。第1部分:CF4 / O2
机译:使用血浆诱导的CF4分解在CO2中的气体绝缘开关装置中残留CF4检测的新方案
机译:介电和金属化学机械平面化过程的摩擦学,热学和动力学表征。
机译:CF4等离子体处理HfO2栅电介质的非晶铟镓锌氧化物薄膜晶体管的电性能和可靠性提高
机译:硅腐蚀中使用的混合气体等离子体中化学过程的建模。第1部分:CF4 / O2用于蚀刻硅的气态混合物等离子体中化学过程的建模。第1部分:CF4 / O2
机译:CF4 / O2等离子体的局部压力分析