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机译:碳材料的微加工和用作反应离子刻蚀的掩模的金属膜的激光微图案化
机译:非晶氢化碳膜用作在SF6等离子体中进行反应离子刻蚀的硅微尖端制造的掩模
机译:使用CF {sub} 4选择性淀积非晶氢化碳膜作为掩模,用于硅的反应离子刻蚀
机译:使用氧等离子体蚀刻和弹性体掩膜的化学吸附的细胞粘附排斥膜的微图案
机译:通过具有动力学离子蚀刻的大规模工程纳米结构表面,其具有动力学自组装的非连续金属膜作为蚀刻掩模
机译:通过脉冲激光沉积和化学气相沉积合成新型材料:第一部分:氮化碳薄膜的能量沉积和稳定性。第二部分:一维材料和装置的催化生长。
机译:适用于5 µm以下荫罩和10 µm以下交叉指状电极(IDE)制造中的材料的低功率多模态激光微加工
机译:碳材料的微机械加工和用作反应离子蚀刻掩模的金属膜的激光微图案化
机译:用氩(ar),四氟化碳(CF4)和六氟化硫(sF6)混合物反应离子刻蚀钛酸锶钡薄膜的研究