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【24h】

Growth and Characterization of p-type InSb on n-type (111) and (110) InSb Substrates using Molecular Beam Epitaxy

机译:利用分子束外延法在n型(111)和(110)InSb衬底上生长和表征p型InSb

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摘要

In this study, Molecular Beam Epitaxy (MBE) has been used to grow p-type InSb layers on both n+(111) and n(110) InSb substrates. Reflection High Energy Electron Diffraction (RHEED) studies along with electro-chemical Capacitance Voltage (CV) pr
机译:在这项研究中,分子束外延(MBE)已被用于在n + (111)和n(110)InSb衬底上生长p型InSb层。反射高能电子衍射(RHEED)研究以及电化学电容电压(CV)pr

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